ACT Tania

Wednesday, June 07, 2006

¿Qué moléculas forma con el oxígeno?

Los métodos químicos, usados actualmente, actúan sobre un compuesto de silicio que sea más fácil de purificar descomponiéndolo tras la purificación para obtener el silicio. Los compuestos comúnmente usados son el triclorosilano (HSiCl3), el tetracloruro de silicio (SiCl4) y el silano (SiH4).
En el proceso Siemens, las barras de silicio de alta pureza se exponen a 1150ºC al triclorosilano, gas que se descompone depositando silicio adicional en la barra según la siguiente reacción:
2 HSiCl3 → Si + 2 HCl + SiCl4

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